Lam Research and JSR Corporation partner on advanced chip-making tech, ending legal disputes. Lam Research y JSR Corporation se asocian en tecnología avanzada para la fabricación de chips, poniendo fin a las disputas legales.

Lam Research and JSR Corporation have formed a non-exclusive cross-licensing and collaboration agreement to advance semiconductor manufacturing, focusing on next-generation patterning technologies like dry resist for EUV lithography and materials for atomic layer etching and deposition. Lam Research y JSR Corporation han formado un acuerdo no exclusivo de licencia cruzada y colaboración para avanzar en la fabricación de semiconductores, centrándose en tecnologías de patronaje de próxima generación como la resistencia seca para la litografía EUV y materiales para el grabado y deposición de capas atómicas. The companies will integrate JSR/Inpria’s resists and films with Lam’s etch and deposition technologies, working together on innovations including metal oxide resists, high NA EUV patterning for advanced chips, and new materials for next-gen processes. Las empresas integrarán las resistencias y películas de JSR/Inpria con las tecnologías de grabado y deposición de Lam, trabajando juntas en innovaciones que incluyen resistencias de óxido de metal, patrones de alta NA EUV para chips avanzados y nuevos materiales para procesos de próxima generación. The partnership also resolves ongoing litigation between the parties. La asociación también resuelve el litigio en curso entre las partes.