Hitachi launches new DCR Etch System 9060 for precise 3D semiconductor manufacturing. Hitachi lanza el nuevo DCR Etch System 9060 para la fabricación precisa de semiconductores en 3D.

Hitachi High-Tech Corporation has introduced the DCR Etch System 9060 Series, designed for precise isotropic etching of advanced 3D semiconductor devices at the atomic level. Hitachi High-Tech Corporation ha introducido la serie DCR Etch System 9060, diseñada para el grabado isotrópico preciso de dispositivos 3D avanzados de semiconductores a nivel atómico. This system uses plasma etching technology for low-damage, high-precision results, and includes a unique cooling mechanism to enhance efficiency. Este sistema utiliza tecnología de grabado de plasma para obtener resultados de bajo daño y alta precisión, e incluye un mecanismo de refrigeración único para mejorar la eficiencia. It aims to help manufacturers of complex semiconductors reduce costs and improve productivity. Su objetivo es ayudar a los fabricantes de semiconductores complejos a reducir costos y mejorar la productividad.